分析某半导体材料公司「废水处理思路」

2020年08月03日 16:38监测分析来源:http://www.hb114.cc

该厂污水主要为两股,一股化学清洗废水,主要污染物为双氧水,氢氟酸,氨氮。一股抛光废水,主要污染物为工艺带来的SS,出水部分中水回用,部分外排。

为了更小的占地面积,更简单的操作及调试,更强的冲击负荷,对清洗废水处理、抛光工业废水处理均采用物化的方式处理。

由于清洗水水质本身COD不高,氮化物过高(且多为氨氮),含有双氧水氟化物,故主体工艺为加药物化+砂碳滤+脱氨膜+RO,氟化物及双氧水用加药沉淀去除,选用了脱氨膜代替生化工艺进行脱氮,脱氮高效稳定,脱出的硫酸铵纯度非常高,可以回收利用。为达到回用要求,增加了工艺(反渗透膜),由此增加了反渗透膜处理浓液所需要的工艺(物化沉淀+生化)沉淀是防止氟超标,生化为了去除浓液的COD

抛光废水只含有SS,故采用二道过滤的工艺,达到回用或排放要求。

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编辑:liaijuan
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